Semiconductor

CVD成膜均一性の改善

精密加工と超音波技術により、ガス流路を最適化し成膜品質を向上

製品情報

半導体製造装置向けセラミックス部品

課題|CVD成膜の均一性

部品内部の流路形状がガスフローに影響し、CVD成膜の均一性およびプロセス安定性の向上が求められていました。

改善対応|高精度加工による流路形状の最適化

精密加工技術を活用し、内部流路および微細孔形状を最適化。試作・加工・評価を繰り返しながら、ガスフローを考慮した高精度な加工仕様を確立しました。

お客様での評価

改善品についてお客様による機能・信頼性評価を実施。要求品質を満たすことを確認し、CVD成膜の均一性およびプロセス安定性の向上につながりました。

*客戶通知修訂的保密諮詢、部分內部內容匿名化和概括化流程。

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